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在Nature、力内蒙Science、NatureMaterials、NatureChemistry、NatureEnergy、NatureElectronics、NatureBiomedicalEngineering、JACS、AM等著名期刊共发表论文百余篇。IDTBT之前已经被Zhenan Bao组报道具有高度的可拉伸性，达到大电地但该可拉伸性却完全不可逆（即非弹性：达到大电地在外界拉伸被撤去后无法回到原有状态，呈现大量褶皱，电学性能显著下降）。
斯坦福大学博士生YuZheng （郑玉）和ZhiaoYu（俞之奡）为共同第一作者，千瓦居为全ZhenanBao（鲍哲南）教授为通讯作者。并且在半导体活性层中的质量占比大于50%，全国甚至可达75%，全国在完美维持半导体性能的同时大大减少了昂贵的高分子半导体用量，从而使得该类弹性体基质前驱体与廉价大规模量产相兼容。BH：古成国最完全氢化的聚1,3-丁二烯骨架+叠氮交联官能团，使其以类似速率同时与半导体和自身交联。
而其余对比分子，力保尤其是精巧设计的BA分子，力保在适度交联半导体（保证其抗溶剂性、可光图案化性等）的同时，大量叠氮实际上是与自身骨架中的C=C双键反应，并不过度破坏高分子半导体的原有堆积和电子传输。最后，障基作者将iRUM半导体复合膜与iRUM介电层复合膜集成到一体，障基制作了弹性场效应晶体管阵列，在50%拉伸长度循环过程中也获得了极其稳定的性能（图4i、j）。
牛津大学IainMcCulloch课题组、输电首位斯坦福大学JianQin（秦健）课题组、南密西西比大学XiaodanGu（顾晓丹）课题组等参与了此工作。
值得注意的是，力内蒙在这里作者们使用了BH而非BA，这也是经过精巧设计的：BA过多的与自身交联，不能很好地交联SEBS从而使其抗溶剂。经过多次【凤凰涅槃】般的重生策略（RepeatedRebirthStrategy）处理得到的NirvanaGraphene（NvG）表现出更出色的物理化学性质，达到大电地包括高密度（是常规三维石墨烯的3.36倍）且保持了高孔隙率（与常规三维石墨烯相当），达到大电地以及更优的导电性（是常规三维石墨烯的1.41倍）、机械强度（是常规三维石墨烯的32.4倍）和渗透行为，此外还拥有无与伦比的体积脱盐能力（8.02~9.2mg/cm3，是常规三维石墨烯的9~10倍）。
千瓦居为全图3.NvG的电容脱盐性能。多孔石墨烯薄片作为NvG的支撑骨架，全国保证了NvG的均匀分布，同时实现了整体框架的自支撑性。
通过研磨NvGn-1获得的GCs(n表示再生次数，古成国最n≥2)作为韧带桥接石墨烯片，进一步提高了NvGn的密度，也进一步改善了NvGn的微观形貌和力学性能。（a）3DG、力保NvGI、NvGI和NvGII的密度及其演化关系。